三星和台积电宣布将采用ASML的高数值孔径极紫外光刻机，与英特尔一起同意一项关键技术变革，有望将芯片产量提升40%。这标志着半导体行业广泛采用高NA EUV技术，每台机器成本高达4亿美元，可制造更小、更强大的AI和消费电子芯片。
背景
ASML是极紫外光刻机的唯一供应商，对生产5纳米以下先进制程芯片至关重要。高NA EUV是该技术的下一代，对延续摩尔定律发展至关重要。
- 来源
- Ars Technica
- 发布时间
- 2026年9月9日 03:12
- 评分
- 8.0 / 10
三星和台积电宣布将采用ASML的高数值孔径极紫外光刻机，与英特尔一起同意一项关键技术变革，有望将芯片产量提升40%。这标志着半导体行业广泛采用高NA EUV技术，每台机器成本高达4亿美元，可制造更小、更强大的AI和消费电子芯片。
ASML是极紫外光刻机的唯一供应商，对生产5纳米以下先进制程芯片至关重要。高NA EUV是该技术的下一代，对延续摩尔定律发展至关重要。